C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
167/207, 260/278
C07D 263/60 (2006.01) C07C 205/06 (2006.01) C07C 205/25 (2006.01) C07D 209/60 (2006.01) C07D 235/02 (2006.01) C07D 307/92 (2006.01) C07D 333/74 (2006.01)
Patent
CA 1313372
PRECIS DE LA DIVULGATION: Composés hétérocycliques polycycliques répondant à la formule suivante: Image (I) dans laquelle: n est 1 ou 2, R1 représente: (i) un radical alkyle inférieur, (ii) -CH2OH, ou (iii.) - ? - R2 R2 représente: (a) un atome d'hydrogène, (b) le radical Image , ou (c) le radical -OR3, R3 représentant un atome d'hydrogène, un radical alkyle C1-C20, un radical mono ou polyhydroxyalkyle, un radical phényle, benzyle ou phénéthyle, non-substitué(s) ou substitué(s) par un halogène, un hydroxy, une fonction nitro ou un radical alkyle inférieur, ou un reste dérivant du glucose, du mannose, de l'érythrose ou du galactose ou encore représente le radical: Image p étant 1, 2 ou 3, r' et r" représen- tant un atome d'hydrogène, un radical alkyle inférieur, un radical monohydroxyalkyle ou polyhydroxyalkyle, un radical phényle éventuellement substitué par un halogène, un hydroxy, une fonction nitro ou un radical alkyle inférieur, un reste d'aminoacide ou de sucre aminé ou encore pris ensemble forment un hétérocycle choisi parmi le radical pipéridino, pipérazino, morpholino, pyrrolidino ou 4-(2'-hydroxyéthyl)pipérazino, X représente un atome d'oxygène, un atome de soufre, SO, SO2 ou le radical -NR4, et Y représente CR4 ou un a-tome d'azote, R4 représente un atome d'hydrogène ou un radical alkyle inférieur. Ils trouvent une application en médecine humaine et vétérinaire notamment dans le traitement topique et systémique des affections dermatologiques.
565554
Bernardon Jean-Michel
Eustache Jacques
Nedoncelle Philippe
Shroot Braham
Centre International de Recherches Dermatologiques (c.i.r.d.)
Robic
LandOfFree
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