C - Chemistry – Metallurgy – 02 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
02
F
C02F 1/461 (2006.01) C02F 1/46 (2006.01) C02F 1/467 (2006.01) C25B 11/00 (2006.01)
Patent
CA 2689646
An electrochlorination and electrochemical system for the on-site generation and treatment of municipal water supplies and other reservoirs of water, by using a custom mixed oxidant and mixed reductant generating system for the enhanced destruction of water borne contaminants by creating custom oxidation-reduction- reactant chemistries with real time monitoring. A range of chemical precursors are provided that when acted upon in an electrochemical cell either create an enhanced oxidation, or reduction environment for the destruction or control of contaminants. Chemical agents that can be used to control standard water quality parameters such as total hardness, total alkalinity, pH, total dissolved solids, and the like are introduced via the chemical precursor injection subsystem infrequently or in real time based on sensor inputs and controller set points.
La présente invention concerne un système d'électrochloration et électrochimique utilisé pour la production sur site et le traitement sur place des réseaux municipaux d'alimentation en eau et d'autres réservoirs d'eau, au moyen d'un système produisant un agent réducteur mixte et un agent oxydant mixte sur mesure qui permet de détruire plus efficacement les contaminants d'origine hydrique du fait de la création de chimies par oxydation-réduction-réactifs associées à une surveillance en temps réel. On utilise une pluralité de précurseurs chimiques qui, lorsqu'ils se retrouvent dans une cellule électrochimique créent soit une oxydation améliorée, soit un environnement de réduction permettant de détruire ou de réguler les contaminants. Des agents chimiques qui peuvent être utilisés pour contrôler les paramètres standard de qualité de l'eau tels que la dureté totale, l'alcalinité totale, le pH, les matières dissoutes totales et autres sont introduits par l'intermédiaire du sous-système d'injection de précurseurs chimiques, de manière sporadique ou en temps réel sur la base des entrées de capteur et des points de réglage du contrôleur.
Fraim Michael L.
Schwartzel David T.
Fraim Michael L.
Osler Hoskin & Harcourt Llp
Schwartzel David T.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1350166