C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 471/04 (2006.01) A61K 31/437 (2006.01) A61K 31/444 (2006.01) A61P 1/00 (2006.01) A61P 3/04 (2006.01) A61P 3/10 (2006.01) A61P 9/08 (2006.01) A61P 9/10 (2006.01) A61P 11/06 (2006.01) A61P 17/00 (2006.01) A61P 17/06 (2006.01) A61P 19/02 (2006.01) A61P 25/28 (2006.01) A61P 29/00 (2006.01) A61P 31/04 (2006.01) A61P 31/12 (2006.01) A61P 35/00 (2006.01) A61P 35/04 (2006.01) A61P 37/02 (2006.01) A61P 37/06 (2006.01) A61P 37/08 (2006.01) A61P 43/00 (2006.01)
Patent
CA 2740807
A novel compound having an excellent NF.KAPPA.B inhibitory effect is provided. Specifically disclosed is a compound represented by the following formula (1) or a salt thereof: wherein, R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or the like; R2 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogen atom, or the like; R3 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a hydroxyl group, or a halogen atom; R4 represents a hydrogen atom or a lower alkyloxy group; R5 represents a hydrogen atom, a lower alkyloxy group, a halogen atom, a hydroxyl group, or a methylenedioxy group formed together with R6 or an isopropylidenedioxy group formed together with R6; R6 represents a hydrogen atom, a lower alkyloxy group, or a methylenedioxy group formed together with R5 or an isopropylidenedioxy group formed together with R5; R7 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group; and R8 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a lower alkylcarbonyloxy group, or a halogen atom. -171- Image
La présente invention concerne un nouveau composé présentant un excellent effet inhibiteur de NF?B. Linvention concerne spécifiquement un composé représenté par la formule (1) ou un sel dudit composé. (Dans la formule, R1 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle de faible poids moléculaire ou analogue; R2 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle de faible poids moléculaire, un atome d'halogène ou analogue; R3 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle de faible poids moléculaire, un groupe hydroxy ou un atome d'halogène; R4 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyloxy de faible poids moléculaire; R5 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyloxy de faible poids moléculaire, un atome d'halogène ou un groupe hydroxy, ou sinon forme un groupe méthylènedioxy ou un groupe isopropylidènedioxy conjointement avec R6; R6 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyloxy de faible poids moléculaire, ou sinon forme un groupe méthylènedioxy ou un groupe isopropylidènedioxy conjointement avec R5; R7 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle de faible poids moléculaire; et R8 représente un atome d'hydrogène, un groupe hydroxy, un groupe amino, un groupe alkylcarbonyloxy de faible poids moléculaire ou un atome d'halogène).
Hashimoto Shusuke
Ikeda Takashi
Matsuzaki Takeshi
Sawada Seigo
Yaegashi Takashi
Kabushiki Kaisha Yakult Honsha
Smart & Biggar
LandOfFree
Phenanthroindolizidine derivative and nf.kappa.b inhibitor... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Phenanthroindolizidine derivative and nf.kappa.b inhibitor..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Phenanthroindolizidine derivative and nf.kappa.b inhibitor... will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1368017