Process for preparing a substrate for the deposition of a...

Details Process for preparing a substrate for the deposition of a... Process for preparing a substrate for the deposition of a...

H - Electricity

01

L

H01L 39/24 (2006.01)

Patent

CA 2161487

Procédé pour la préparation d'un substrat en vue du dépôt d'une couche mince d'un matériau supraconducteur, caractérisé en ce que l'on procède à une opération de dépôt sur le substrat d'un matériau intermédiaire ayant la propriété d'avoir une dimension de maille cristalline fonction du pourcentage d'un élément de dopage, l'opération de dépôt étant initiée avec une concentration de l'élément de dopage tel que la maille cristalline du matériau intermédiaire soit égale à ou aussi voisine que possible de la dimension de la maille cristalline du substrat, la proportion de l'élément de dopage étant continûment changée lors de l'opération de dépôt jusqu'à une proportion de l'élément de dopage telle que la dimension de la maille cristalline du matériau intermédiaire soit égale à ou aussi voisine que possible de la dimension de la maille cristalline du matériau supraconducteur.

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