B - Operations – Transporting – 24 – B
Patent
B - Operations, Transporting
24
B
B24B 53/007 (2006.01) B24B 53/12 (2006.01) B24B 57/00 (2006.01) B24B 37/04 (2006.01)
Patent
CA 2626564
An apparatus for conditioning the polishing pad of a chemical mechanical plana.pi.zation (CMP) system including an apertured conditioning disk formed to support a plurality of brush bristles in any desired configuration The bnstles are utilized to lift out debris an contaminants that have been lodged within the deep pores of polishing pads, particularly "sofi" polishing pads (or polishing felts) The apertures in the conditioning disk are used to allow for the efficient evacuation of the effluent created du.pi.ng the conditioning process The apertures may also be used to introduce conditioning fluids as the bnstles are brushing the surface to assist in the conditioning process The utilization of the apertures to evacuate the effluent (via an attached vacuum source) overcomes problems associated wit the p.pi.or art by immediately removing the dislodged mate.pi.al from the pad surface before it has an opportunity to be re-incorporated int the polishing pad.
Appareil de conditionnement du patin de polissage d'un système à planarisation chimico-mécanique (CMP) comprenant un disque de conditionnement ouvert constitué pour supporter une pluralité de poils de brosse dans une configuration désirée quelconque. Les poils servent à soulever les débris et les contaminants s'étant logés dans les pores profonds des patins de polissage, en particulier des patins de polissage 'souples' (ou feutres de polissage) comprenant des pores relativement profonds. Les ouvertures du disque de conditionnement permettent l'évacuation efficace de l'effluent créé pendant le processus de conditionnement. Les ouvertures peuvent également servir à introduire des fluides de conditionnement tandis que les poils brossent la surface pour faciliter le processus de conditionnement. L'utilisation des ouvertures pour évacuer l'effluent (par le biais d'une source de vide jointe) surmonte les problèmes associés à l'art antérieur en retirant immédiatement le matériau délogé de la surface de patin avant qu'il n'ait le temps de retourner dans le patin de polissage.
Borden Ladner Gervais Llp
Tbw Industries Inc.
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