C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 401/06 (2006.01) A61K 31/505 (2006.01) C07D 239/26 (2006.01) C07D 239/42 (2006.01) C07D 239/48 (2006.01)
Patent
CA 2233502
The invention is concerned with compounds of general formula (I), wherein R1 and R2 each individually signify lower-alkyl or amino, A signifies A1, A2, A3, A4, A5, A6 or A7; B signifies hydrogen in A4, A5 and A6; (i) in A1-A6; lower- alkoxy in A4-A6; and lower alkyl, styryl, phenylethynyl or benzoyloxy-lower- alkyl in A1 and A2; n signifies 0-2; m, p signify 0, 1 and R3, R4, R5 and R6 each independently signify hydrogen, halogen, lower-alkyl, trifluoromethyl, lower-alkoxy or nitro, and pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof. These compounds can be used in the control or prevention of illnesses which are caused by disorders of the dopamine system. Psychotic illnesses such as e.g. schizophrenia belong to these.
L'invention concerne des composés de la formule générale (I), ainsi que des sels d'addition d'acide de ceux-ci, acceptables sur le plan pharmacologique. Dans cette formule, R?1¿ et R?2¿ représentent chacun individuellement alkyle inférieur ou amino, A représente A?1¿, A?2¿, A?3¿, A?4¿, A?5¿, A?6¿ ou A?7¿; B représente hydrogène dans A?4¿, A?5¿ et A?6¿, (i) dans A?1¿-A?6¿, alcoxy inférieur dans A?4¿-A?6¿, et alkyle inférieur, styryle, phényléthynyle ou benzoyloxy-alkyle inférieur dans A?1¿ et A?2¿; n vaut 0-2; m, p valent 0, 1 et R?3¿, R?4¿, R?5¿ et R?6¿ représentent chacun indépendamment hydrogène, halogène, alkyle inférieur, trifluorométhyle, alcoxy inférieur ou nitro. On peut utiliser ces composés dans la lutte contre certaines maladies, ou dans la prévention de celles-ci, lesquelles sont provoquées par des troubles du système dopaminergique. Des maladies psychotiques, telles que par exemple la schizophrénie, appartiennent à ces maladies.
Edenhofer Albrecht
Godel Thierry
Riemer Claus
F. Hoffmann-La Roche Ag
Gowling Lafleur Henderson Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1513677