C - Chemistry – Metallurgy – 08 – G
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
G
C08G 18/10 (2006.01) C08G 18/28 (2006.01) C08G 18/48 (2006.01) C09D 175/04 (2006.01) C09J 175/04 (2006.01)
Patent
CA 2542949
Preparation of moisture-curable, alkoxysilane-functional polyether urethanes by reacting at an NCO:OH equivalent ratio of 1.5:1 to 2.5:1 a) a hydroxyl component containing i) 20 to 100 wt.%, of a polyether diol and other polyether segments, where the polyether segments have Mn of at least 3000 and degree of unsaturation of less than 0.04 meq/g, where the sum of Mn of polyether segments per molecule averages 6000 to 20,000, and ii) 0 to 80 wt.% of a polyether monool and other polyether segments having Mn of 1000 to 15,000, with b) an isocyanate component containing i) 20 to 100 wt.% of a diisocyanate, and ii) 0 to 80 wt.% of a monoisocyanate, forming an isocyanate- containing reaction product reacted at an equivalent ratio of 0.8:1 to 1.11:11 with C) a compound containing an isocyanate-reactive group and reactive silane groups where at least 10 mole % is a compound of formula: (I).
L'invention concerne la préparation d'uréthannes polyéthers à fonction alcoxysilane, durcissables à l'humidité, consistant à faire réagir, à un rapport en équivalents NCO : OH de 1,5 :1 à 2,5 :1, a) un composant hydroxylé contenant i) 20 à 100 % en poids d'un polyéther diol et d'autres segments polyéther, où les segments polyéther présentent un Mn d'au moins 3000 et un degré de saturation inférieur à 0,04 meq/g, la somme de Mn des segments polyéther par molécule s'élevant en moyenne à 6000 à 20.000, et ii) 0 à 80% en poids d'un polyéther de monool et d'autres segments polyéther d'un Mn de 1000 à 15.000, et b) un composant isocyanate contenant i) 20 à 100% en poids d'un diisocyanate et ii) 0 à 80% en poids d'un monoisocyanate formant un produit réactionnel contenant un isocyanate, réagissant, à un rapport en équivalents de 0,8 :1 à 1,1 :1 avec c) un composé contenant un groupe réactif isocyanate et des groupes silane réactifs dans lesquels au moins 10 % mole sont formés par un composé de formule (I).
Crawford Derek L.
Danielmeier Karsten
Frisch Kurt C.
Pethiyagoda Dinesh
Roesler Richard R.
Aktiengesellschaft Bayer
Bayer Materialscience Llc
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
LandOfFree
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