C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 16/06 (2006.01) C23C 18/12 (2006.01) C30B 7/10 (2006.01) C30B 25/00 (2006.01) C30B 29/60 (2006.01)
Patent
CA 2685586
The invention relates to a method for preparing a substrate including a solid support and several layers on said support: a layer made of a film of metal oxide(s) particles; a layer made of a film of one or more metal(s) or dispersed particles of one or more metal(s). The method comprises the following steps: a) impregnating the solid heated support with a solution of precursors of the metal oxide(s) in a supercritical fluid and depositing a homogeneous and continuous film of metal oxide(s) particles or metal oxide(s) particles homogeneously dispersed on the support on the underlying layer; b) depositing a continuous or discontinuous film of one or more metals or dispersed particles of one or more metals on the support or on an underlying layer by chemical vapour deposition (CVD) from one or more precursors; wherein the steps a) and b) are carried out in the same chamber and reactor.
Procédé de préparation d'un substrat comprenant un support solide et plusieurs couches sur ledit support; - une couche étant constituée par un film de particules d'oxyde(s) de métal; - une couche étant constituée par un film d'un ou plusieurs métal (métaux), ou par des nanoparticules dispersées d'un ou plusieurs métal (métaux); ledit procédé, comprenant les étapes suivantes : a) - on imprègne le support solide, chauffé, avec une solution de précurseurs du ou des oxyde(s) de métal dans un fluide supercritique, et on dépose un film homogène et continu des particules d'oxyde(s) de métal, ou des particules d'oxyde(s) de métal dispersées de manière homogène, sur le support sur la couche sous jacente; b) - on dépose un film continu ou discontinu d'un ou plusieurs métal (métaux), ou des nanoparticules dispersées d'un ou plusieurs métal (métaux) sur le support ou sur une couche sous-jacente, par dépôt chimique. en phase vapeur CVD, à partir d'un ou plusieurs précurseurs; - les étapes a) et b) étant réalisées dans la même enceinte, même réacteur.
Donet Sebastien
Fournel Bruno
Ruiz Jean-Christophe
Thollon Stephanie
No associations
LandOfFree
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