System and method for wastewater treatment

C - Chemistry – Metallurgy – 02 – F

Patent

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Details

C02F 1/42 (2006.01) B01J 19/26 (2006.01) B01J 49/00 (2006.01) C02F 1/00 (2006.01) C02F 1/28 (2006.01)

Patent

CA 2744994

The present disclosure is directed towards systems and methods for the treatment of wastewater. A system in accordance with one particular embodiment may include at least one resin tank including an ion ex-change resin configured to target a particular metal. The at least one resin tank may be configured to receive an output from an oxidation reactor configured to receive a flow of wastewater from a wastewater producing process. The system may further include a vacuum filter band sys-tem configured to receive a saturated resin tank and to apply a water rinse to the resin to generate a resin slurry, the vacuum filter band system including a vacuum filter band configured to receive the resin slurry. Numerous other embodiments are also within the scope of the present disclosure.

La présente invention concerne des systèmes et des procédés de traitement d'eaux usées. Un système selon un mode de réalisation particulier l'invention peut comprendre au moins un réservoir de résine comprenant une résine à échange d'ions configurée pour cibler un métal particulier. Ce ou ces réservoirs de résine peuvent être configurés pour recevoir un produit de sortie d'un réacteur d'oxydation configuré pour recevoir un flux d'eaux usées en provenance d'un processus de production d'eaux usées. Ce système peut aussi comprendre un système de bande de filtre d'aspiration configuré pour recevoir un réservoir de résine saturée et pour appliquer un rinçage à l'eau à cette résine afin de générer une suspension épaisse de résine, ce système de bande de filtre d'aspiration comprenant une bande de filtre d'aspiration configurée pour recevoir cette suspension épaisse de résine. De nombreux autres modes de réalisation entrent aussi dans le cadre de la présente invention.

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