A - Human Necessities – 61 – M
Patent
A - Human Necessities
61
M
A61M 37/00 (2006.01) A61B 5/15 (2006.01)
Patent
CA 2450367
The present invention provides a microneedle incorporating a base that is broad relative to a height of the microneedle, to minimize breakage. The microneedle further includes a fluid channel and a beveled noncoring tip. Preferably arrays of such microneedles are fabricated utilizing conventional semiconductor derived microscale fabrication techniques. A dot pattern mask is formed on an upper surface of a silicon substrate, with each orifice of the dot pattern mask corresponding to a desired location of a microneedle. Orifices are formed that pass completely through the substrate by etching. A nitride pattern mask is formed to mask all areas in which a nitride layer is not desired. A nitride layer is then deposited on the bottom of the silicon substrate, on the walls of the orifice, and on the top of the silicon substrate around the periphery of the orifice. The nitride layer around the periphery of the orifice is offset somewhat, such that one side of the orifice has a larger nitride layer. Anisotropic etching is used to remove a substantial portion of the substrate, creating a plurality of angular, blunt, and generally pyramidal-shaped microneedles. A subsequent removal of the nitride layer, followed by an isotropic etching step, softens and rounds out the blunt angular microneedles, providing generally conical-shaped microneedles. The uneven nitride layer adjacent the orifice ensures that the microneedles will include a beveled tip. Such microneedle arrays are preferably incorporated into handheld diagnostic and drug delivery systems.
La présente invention concerne une microaiguille comprenant une base large par rapport à la hauteur de la microaiguille, pour réduire au minimum le risque de rupture de l'aiguille. La microaiguille comprend également un canal d'écoulement et une pointe biseautée. De préférence, ces microaiguilles sont fabriqués en nombre à l'aide de techniques classiques de fabrication de semi-conducteurs. Ces microaiguilles sont fabriquées selon un procédé consistant : à former un masque à motif en pointillés sur la surface supérieure d'un substrat de silicium, chaque orifice du masque à motif en pointillés correspondant à un emplacement désiré d'une microaiguille ; à former des orifices traversant complètement le substrat par procédé de gravure ; à former un masque à motif en nitrure pour masquer les zones dans lesquelles une couche de nitrure n'est pas désirée ; à déposer une couche de nitrure sur le bas du substrat de silicium, sur les parois de l'orifice, et sur le haut du substrat de silicium, autour de l'orifice, la couche de nitrure située autour de l'orifice étant légèrement décalée, de manière qu'un côté de l'orifice possède une couche de nitrure plus importante ; à utiliser un procédé de gravure anisotrope pour éliminer une grande partie du substrat et créer une pluralité de microaiguilles globalement pyramidales, angulaires et épointées ; et à éliminer la couche de nitrure et à procéder à une gravure anisotrope afin d'adoucir et d'arrondir les aiguilles angulaires épointées et d'obtenir des microaiguilles globalement coniques. La couche de nitrure irrégulière située à proximité de l'orifice permet d'assurer que les microaiguilles comprendront une pointe biseautée. Ces ensembles de microaiguilles sont de préférence utilisés avec des systèmes portatifs de diagnostic et d'administration de médicaments.
Abbott Laboratories
Hospira Inc.
Norton Rose Or S.e.n.c.r.l. S.r.l./llp
LandOfFree
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