C - Chemistry – Metallurgy – 11 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
11
D
C11D 3/33 (2006.01) C02F 5/12 (2006.01) C11D 3/04 (2006.01)
Patent
CA 2649239
A chelating composition suitable for low-temperature use or storage is disclosed. The chelating compositions include 20 to 70 wt. percent of a polar solvent and 30 to 80 wt. percent of a first component of the formula: (I) wherein R is a hydroxyalkyl group and each R' is individually selected from the group consisting of hydrogen, unsubstituted or inertly substituted alkyl groups, carbonyl-containing alkyl groups, carboxylate-containing alkyl groups, hydroxyalkyl groups and alkoxy groups; R" is selected from the group consisting of hydrogen, unsubstituted or inertly substituted alkyl groups; carbonyl-substituted alkyl groups, carboxylate-containing alkyl groups, hydroxyalkyl groups and alkoxy groups; M1 and M2 are alkali metal ions, wherein the M1 has a higher atomic weight than M2; wherein x + y = n and the mole fraction of M1 is greater than 0.70 to 1. Methods of suppressing crystallization and methods of cleaning surfaces employing the compositions described herein are also disclosed.
L'invention concerne une composition chélatante convenant à une utilisation ou à un stockage à basse température. Cette composition chélatante contient 20 à 70 % en masse d'un solvant polaire et 30 à 80 % en masse d'un premier constituant de formule (I), dans laquelle R désigne un groupe hydroxyalkyle et chaque R' est sélectionné individuellement dans le groupe constitué par hydrogène, des groupes alkyle non substitués ou substitués sous atmosphère inerte, des groupes alkyle contenant du carbonyle, des groupes alkyle contenant du carboxylate, des groupes hydroxyalkyle et des groupes alcoxy; R" est sélectionné dans le groupe constitué par hydrogène, des groupes alkyle non substitués ou substitués sous atmosphère inerte, des groupes alkyle substitués par carbonyle, des groupes alkyle contenant du carboxylate, des groupes hydroxyalkyle et des groupes alcoxy; M1 et M2 sont des ions métalliques alcalins, M1 présentant une masse atomique supérieure à celle de M2; x + y = n et la fraction molaire de M1 est comprise entre 0,70 et 1. Cette invention concerne également des procédés permettant d'éviter la cristallisation et des procédés de nettoyage de surfaces à l'aide desdites compositions.
Crump Druce K.
Wilson David A.
Dow Global Technologies Inc.
Dow Global Technologies Llc
Smart & Biggar
LandOfFree
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