B - Operations – Transporting – 05 – D
Patent
B - Operations, Transporting
05
D
B05D 3/00 (2006.01) B05D 3/06 (2006.01) B05D 3/10 (2006.01) B05D 3/14 (2006.01) C23C 14/02 (2006.01) C23C 16/48 (2006.01)
Patent
CA 2348378
The invention relates to a method for producing adhesive surface coatings on an inorganic or organic substrate, characterized by the following steps: a) subjecting the inorganic or organic substrate to low-temperature plasma discharge, corona discharge, high-energy UV radiation or electron emission, then disrupting the radiation or discharge, in a further step b) applying one or several photoinitiators, containing at least one ethylenically unsaturated group, under reduced or normal pressure on the inorganic or organic substrate and allowing it to react with the radical sites meanwhile formed, and c1) coating the substrate thus pre-coated with the photoinitiator with a composition containing at least one ethylenically unsaturated monomer or oligomer, and curing the coating by UV/VIS radiation or c2) depositing on the substrate thus pre-coated with the photoinitiator a metal, metalloid or metal oxide from the gaseous phase in the presence of UV light. The invention also relates to the use of photoinitiators having at least one ethylenically unsaturated group for producing such layers and the adhesive coatings as such.
L'invention concerne un procédé permettant de réaliser des revêtements adhésifs sur un substrat inorganique ou organique, qui se caractérise en ce que dans une première étape; a) on soumet le substrat inorganique ou organique à une décharge plasmatique à basse température, à une décharge par effet de couronne, à l'action d'un rayonnement U.V. ou d'un faisceau d'électrons hautement énergétique; puis on interrompt l'action du rayonnement ou de la décharge. Dans une autre étape, b) on applique sur le substrat inorganique ou organique un ou plusieurs initiateurs photoniques contenant au moins un groupe insaturé éthyléniquement, sous vide ou à pression normale et on le met à réagir avec les points radicalaires qui y sont apparus et c1) le substrat ainsi prérecouvert avec l'initiateur photonique est revêtu d'une composition contenant au moins un monomère ou oligomère insaturé éthyléniquement et le revêtement est durci par rayonnement U.V./VIS ou c2) un métal, un oxyde deétalloïde ou un oxyde de métal provenant de la phase gazeuse est déposé par rayonnement U.V. sur le substrat prérecouvert avec l'initiateur photonique. L'invention concerne en outre l'utilisation d'initiateurs photoniques avec au moins un groupe insaturé éthyléniquement pour produire des couches de ce type, ainsi que les revêtements adhésifs proprement dits.
Bauer Michael
Kohler Manfred
Kunz Martin
Misev Ljubomir
Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1599034