G - Physics – 02 – B
Patent
G - Physics
02
B
G02B 5/08 (2006.01) G02B 26/08 (2006.01) G02B 26/10 (2006.01)
Patent
CA 2521806
A mirror for wide angle scanning applications comprises: a silicon substrate comprising a flat, polished surface side and an etched, rough surface side; and a plurality of layers, including a layer of reflective medium, disposed on the flat, polished surface of the substrate section in such a manner to minimize flexural distortion of the flat surface. The mirror is made by a method comprising the steps of: preparing the silicon wafer by polishing one side to a predetermined flatness and etching the other side to a predetermined roughness; cutting the substrate section from the prepared silicon wafer to a predetermined shape and macroscopic size; and applying a plurality of layers on the flat, polished surface.
L'invention concerne un miroir macroscopique destiné à des applications de balayage à grand angle qui comprend : une section substrat de silicium de forme et de taille macroscopique prédéterminées découpée à partir d'une plaquette de silicium qui comporte un côté de surface poli et plat, et un côté de surface rugueux et gravé ; et une pluralité de couches, y compris une couche d'un milieu de réflexion disposée sur la surface polie et plate de la section substrat de façon que la distorsion de flexion de ladite surface plate soit réduite au minimum. Ce miroir macroscopique est produit au moyen d'un procédé qui comprend les étapes consistant : à préparer la plaquette de silicium par polissage d'un côté à une planéité prédéterminée et par gravure de l'autre côté à une rugosité prédéterminée ; à découper la section substrat à partir de la plaquette de silicium préparée à une forme et une taille macroscopique prédéterminées ; et à appliquer la pluralité de couches sur la surface polie et plate.
Rosemount Aerospace Inc.
Smart & Biggar
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1625897