H - Electricity – 05 – H
Patent
H - Electricity
05
H
H05H 1/46 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01)
Patent
CA 2522603
An RF driver circuit and an orthogonal antenna assembly/configuration, are disclosed as part of a method and system for generating high density plasma. The antenna assembly is an orthogonal antenna system that may be driven by any RF generator/circuitry with suitable impedance matching to present a low impedance. The disclosed RF driver circuit uses switching type amplifier elements and presents a low output impedance. The disclosed low-output impedance RF driver circuits eliminate the need for a matching circuit for interfacing with the inherent impedance variations associated with plasmas. Also disclosed is the choice for capacitance or an inductance value to provide tuning for the RF plasma source. There is also provided a method for rapidly switching the plasma between two or more power levels at a frequencies of about tens of Hz to as high as hundreds of KHz.
Cette invention concerne un circuit de commande RF et un ensemble/configuration d'antenne orthogonale faisant partit d'une procédé et d'un système de production de plasma haute densité. L'ensemble antenne est constitué par un ensemble antenne orthogonal qui peut être piloté par un générateur/circuit RF avec appariement d'impédance approprié de manière à présenter une faible impédance. Le circuit pilote RF de l'invention fait appel à des éléments d'amplificateur du type à commutation et présente une faible impédance de sortie. Les circuits de commande RF de faible impédance rendent superflu la présence d'un circuit d'adaptation assurant l'interface avec les variations d'impédance inhérentes associées aux plasmas. L'invention concerne également le choix d'une capacitance ou d'une valeur d'inductance pour accord en ce qui concerne la source de plasma RF. Est également décrit un procédé assurant une commutation rapide entre deux ou plusieurs niveaux de plasma à des fréquences pouvant aller de quelques dizaines de Hz à des centaines de KHz.
Osler Hoskin & Harcourt Llp
Plasma Control Systems Llc
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1632532