H - Electricity – 01 – L
Patent
H - Electricity
01
L
H01L 21/02 (2006.01) G03F 1/14 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
Patent
CA 2219630
A method of transforming the exposure pattern is provided so as to obtain a transferred image as being closest possible to the object design pattern in a lithography process. The method comprises the steps of dividing a visible outline of desired design pattern P into a plurality of edges according to a specified rule, then assigning a plurality of evaluation points H to each of the edges; computing a transferred image of an exposed pattern by simulation; computing a distance between each evaluation point H on each edge E and a position corresponding to each evaluation point H of the transferred image of the exposed pattern; and determining a corrected exposure pattern by inputting the distance to a specified evaluation function to correct the position of each edge E according to the output value of the evaluation function.
Méthode permettant de transformer un motif d'exposition pour obtenir dans un procédé lithographique une image transférée aussi fidèle que possible du motif à reproduire. La méthode consiste : à diviser le contour visible d'un motif désiré P en un certain nombre de bords, en fonction d'une règle spécifique, et à assigner ensuite un certain nombre de points d'évaluation H à chacun des bords; à traiter par simulation l'image transférée d'un motif exposé; à calculer la distance entre chaque point d'évaluation H sur chaque bord E afin d'obtenir une position correspondant à chaque point H de l'image transférée du motif exposé; et à déterminer un motif d'exposition corrigé en ajoutant la distance à une fonction d'évaluation spécifique afin de corriger la position de chacun des bords E en fonction de la valeur de sortie de la fonction d'évaluation.
Gowling Lafleur Henderson Llp
Sony Corporation
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1647113