C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 285/06 (2006.01) A61K 31/433 (2006.01) A61K 31/4439 (2006.01) A61K 31/497 (2006.01) A61K 31/506 (2006.01) A61P 1/00 (2006.01) A61P 11/00 (2006.01) A61P 13/00 (2006.01) A61P 29/00 (2006.01) C07D 417/10 (2006.01) C07D 417/14 (2006.01)
Patent
CA 2745290
Compounds of the formula (I): or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein, R1 is optionally substituted thiadiazolyl, and R1, R3, R4, R5, R6, R7 and R8 are as defined herein. Also disclosed are methods of using the compounds for treating diseases associated with P2X3 and/or a P2X2/3 receptor antagonists and methods of making the compounds.
La présente invention concerne des composés de formule (I) ou l'un de leurs sels pharmaceutiquement acceptables; dans cette formule, R1 représente un groupe thiadiazolyle éventuellement substitué et R2, R3, R4, R5, R6, R7 et R8 sont tels que définis dans la description. L'invention a également pour objet des méthodes d'utilisation des composés pour le traitement de maladies associées à des antagonistes des récepteurs P2X3 et/ou P2X2/3 et des procédés de fabrication des composés.
Chen Li
Dillon Michael Patrick
Feng Lichun
Lai Yingjie
Yang Minmin
Borden Ladner Gervais Llp
F. Hoffmann-La Roche Ag
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1692505