Photocleavable protecting groups

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C - Chemistry, Metallurgy

07

H

C07H 19/10 (2006.01) C07B 61/00 (2006.01) C07H 19/06 (2006.01) C07H 19/16 (2006.01) C07H 19/20 (2006.01) C07H 21/00 (2006.01) C07K 1/04 (2006.01) C07K 1/06 (2006.01) C07K 17/06 (2006.01)

Patent

CA 2421732

Novel compounds are provided which are useful as linking groups in chemical synthesis, preferably in the solid phase synthesis of oligonucleotides and polypeptides. The compounds are generally photolabile and comprise protecting groups which can be removed by photolysis to unmask a reactive group. The protecting groups has the general formula (Y), wherein: (Y) is a chemical structure as shown the Figure. Also provided is a method of forming, from component molecules, a plurality of compounds on a support, each compound occupying a separate predefined region of the support, using the protected compounds described above.

L'invention se rapporte à de nouveaux composés qui s'avèrent utiles en tant que groupes de liaison lors de la synthèse chimique, de préférence la synthèse chimique en phase solide, d'oligonucléotides et de polypeptides. Ces composés sont généralement photolabiles et ils comportent des groupes de protection qui peuvent être supprimés par photolyse de manière à révéler un groupe réactif. Le groupe protecteur possède la formule générale Y, dont la structure chimique est représentée sur la figure 1. L'invention se rapporte également à un procédé permettant de former, à partir de molécules composantes, une pluralité de composés sur un support, chaque composé occupant une région préétablie distincte du support, au moyen des composés protégés décrits ci-dessus.

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