C - Chemistry – Metallurgy – 08 – L
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
L
C08L 23/06 (2006.01) C08F 2/50 (2006.01) G03F 7/031 (2006.01)
Patent
CA 2430705
A process for the production of coatings having scratch-resistant durable surfaces, in which there is used a photocurable formulation comprising a surface-active photoinitiator, concentrated at the surface of the formulation, of formula (Ia) or (Ib), wherein R and R3 are, for example, a radical of formula (II); R1 is, for example, hydrogen, A1-X1- or a radical of formula (II); R2 is, for example, unsubstituted or substituted C1-C12alkyl or A2-X2-; R4 is, for example, hydrogen or A4-X4-; R5 is, for example, hydrogen or A5-X5- or is a radical of formula (II); R6, R7, R8, R9 and R10 are each independently of the others, for example, hydrogen, A-X-, A3-X3- or C1-C12alkyl; A, A1, A2, A3, A4 and A5 are each independently of the others, for example, a surface- active radical of formula (III); n is a number from 1 to 1000, m is a number from 0 to 100; p is a number from 0 to 10 000; R18, R19, R20, R21, G1 and G2 are, for example, C1-C18alkyl; and X, X1, X2, X3, X4 and X5 are, for example, a single bond.
La présente invention concerne un procédé de production de revêtements présentant des surfaces durables résistantes aux rayures. Selon ce procédé, on utilise une préparation photodurcissable qui comprend un photo-initiateur tensio-actif, concentré à la surface de la préparation, de formule (Ia) ou (Ib) : dans lesquelles R et R¿3? représentent, par exemple, un radical de formule (II), R¿1? représente, par exemple, hydrogène, A¿1?-X¿1?- ou un radical de formule (II), R¿2? représente, par exemple, alkyle C¿1?-C¿12? substitué ou non substitué ou A¿2?-X¿2?-, R¿4? représente, par exemple, hydrogène ou A¿4?-X¿4?-, R¿5? représente, par exemple, hydrogène ou A¿5?-X¿5?- ou un radical de formule (II), R¿6?, R¿7?, R¿8?, R¿9? et R¿10? représentent, indépendamment les uns des autres, par exemple, hydrogène, A-X-, A¿3?-X¿3?- ou alkyle C¿1?-C¿12?, A, A¿1?, A¿2?, A¿3?, A¿4? et A¿5? représentent, indépendamment les uns des autres, par exemple, un radical tensio-actif de formule (III), dans laquelle n représente un nombre allant de 1 à 1000, m représente un nombre allant de 0 à 100, p représente un nombre allant de 0 à 10 000, R¿18?, R¿19?, R¿20?, R¿21?, G¿1? et G¿2? représentent, par exemple, alkyle C¿1?-C¿18? et X, X¿1?, X¿2?, X¿3?, X¿4? et X¿5? représentent, par exemple, une liaison simple.
Baudin Gisele
Jung Tunja
Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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