C - Chemistry – Metallurgy – 11 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
11
D
C11D 3/33 (2006.01) B01D 53/52 (2006.01) B01D 53/56 (2006.01) B01D 53/60 (2006.01) C23C 18/40 (2006.01) G03C 7/42 (2006.01)
Patent
CA 2230275
Polyamino monosuccinic acids are effective chelants for use in gas conditioning (preferably involving the polyamino monosuccinic acid in the form of a metal chelate, preferably an iron complex). Hydrogen sulfide can be removed from a fluid by contacting said fluid with an aqueous solution at a pH suitable for removing hydrogen sulfide wherein said solution contains at least one higher valence polyvalent metal chelate of at least one polyamino monosuccinic acid. NOx can be removed from a fluid by contacting the fluid with an aqueous solution of a least one lower valence state polyvalent metal chelate of at least one polyamino monosuccinic acid. The copper chelates are also useful in electroless copper plating. In electroless deposition, the invention includes a method of electroless deposition of copper upon a non- metallic surface receptive to the deposited copper including a step of contacting the non-metallic surface with an aqueous solution comprising a soluble copper salt and at least one polyamino monosuccinic acid and plating baths appropriate for such use. Another aspect of the invention includes the use of the polyamino monosuccinic acids in laundry detergent compositions containing a detergent surfactant and builder.
Les acides polyamino-monosucciniques sont des chélatants efficaces utilisés dans le traitement de gaz (l'acide polyamino-monosucciniques se présentant de préférence sous la forme d'un chélate métallique, de préférence un complexe de fer). Du sulfure d'hydrogène peut être éliminé d'un fluide par la mise en contact de ce fluide avec une solution aqueuse à un pH adapté pour l'élimination de sulfure d'hydrogène, la solution contenant au moins un chélate de métal polyvalent de valence plus élevée d'au moins un acide polyamino-monosuccinique. Le NO¿x? peut être éliminé d'un fluide par la mise en contact de ce fluide avec une solution aqueuse d'au moins un chélate de métal de niveau de valence inférieur d'au moins un acide polyamino-monosuccinique. Les chélates de cuivre sont également utiles au dépôt de cuivre chimique. Concernant le dépôt de cuivre chimique, on décrit un procédé de dépôt de cuivre chimique sur une surface non métallique réceptive au cuivre déposé, consistant notamment à mettre en contact la surface non métallique avec une solution aqueuse comportant un sel de cuivre soluble, au moins un acide polyamino-monosuccinique et des bains de plaquage appropriés pour cet usage. L'invention concerne par ailleurs l'utilisation d'acides polyamino-monosucciniques dans des compositions détergentes de blanchissage contenant un tensioactif détergent et un adjuvant.
Strickland Alan D.
Wilson David A.
Smart & Biggar
The Dow Chemical Company
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1765806