C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 249/08 (2006.01) C07C 29/44 (2006.01) C07C 33/48 (2006.01)
Patent
CA 2449800
Novel halophenyl derivatives of the general formula (I), wherein R1 is halogen, a leaving group or 1H-1,2,4-triazol-l-yl and R2 is ethynyl or carboxy, X1 is halogen and X2 and X3 are each independently hydrogen or halogen, and their manufacture are described. They are intermediates for manufacturing azole derivatives of the general formula (V) which are valuable medicaments useful for treating systemic mycoses.
La présente invention concerne de nouveaux dérivés halophényle représentés par la formule générale (I). Dans cette formule R?1¿ est halogène, un groupe partant ou 1H-1,2,4-triazol-l-yle et R?2¿ est éthynyle ou carboxy, X?1¿ est halogène et X?2¿ et X?3¿ sont chacun indépendamment hydrogène ou halogène. Cette invention concerne aussi la préparartion de ces dérivés. Ils sont des intermédiaires dans la fabrication de dérivés azole représentés par la formule générale (V), lesquels sont des médicaments interessants convenant pour traiter les mycoses sytémiques.
Basilea Pharmaceutica Ag
Gowling Lafleur Henderson Llp
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