Surface-active photoinitiators

Details Surface-active photoinitiators Surface-active photoinitiators

C - Chemistry, Metallurgy

07

D

C07D 335/16 (2006.01) C07C 45/46 (2006.01) C07C 45/71 (2006.01) C07C 49/784 (2006.01) C07C 49/84 (2006.01) C07D 311/00 (2006.01) C07D 311/12 (2006.01) C07F 7/08 (2006.01) C07F 7/18 (2006.01) C08F 2/50 (2006.01) G03F 7/031 (2006.01)

Patent

CA 2431619

A process for the production of coatings having scratch-resistant durable surfaces, in which there are used photocurable formulations comprising a surface-active photoinitiator, concentrated at the surface of the formulation, of formula (Ia), (Ib), (Ic) or (Id), wherein R and R1 are, for example, each independently of the other a radical of formula (II); R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 and R9 are each independently of the others, for example, hydrogen; A-X, A1- X1-; unsubstituted or substituted C1-C12alkyl or phenyl; with the proviso that in formulae (Ia) and (Ib) at least one substituent A-X, A1-X1- is present in at least one of the radicals R and R1; and with the proviso that in formulae (Ic) and (Id) at least one of the radicals ); R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 and R9 is A-X, A1-X1-; A and A1 are each independently of the other a surface- active radical of formula (III) or A0; n is, for example, a number from 1 to 1000 m is a number from 0 to 100; p is a number from 0 to 10 000; A0 is, for example, C6-C30alkyl; G1 and G2 are, for example, C1-C18alkyl; R18, R19, R20, R22, R21, R23, R24, R25, R26 and R27 are, for example, C1-C18alkyl; and X and X1 are, for example, a single bond.

L'invention concerne un procédé de production de revêtements ayant des surfaces permanentes résistant aux rayures, dans lesquels on utilise des formulations photodurcissables renfermant un photoamorceur tensioactif, concentré sur la surface de la formulation, de formule la, lb, lc ou ld. R et R¿1? représentent, par exemple, chacun indépendamment l'un de l'autre un radical de la formule II. R¿2?. R¿3?, R¿4?, R¿5?, R¿6?, R¿7?, R¿8? et R¿9? représentent chacun indépendamment les uns des autres, par exemple, hydrogène; A-X-, A¿1?-X¿1?-; C¿1?-C¿12?alkyle ou phényle non substitué ou substitué; pour autant que, dans les formules (la) et (lb), au moins un A-X- ou A¿1?-X¿1?- substitué soit présent dans au moins un des radicaux R et R¿1?; et pour autant également que, dans les formules (lc) et (ld), au moins un des radicaux R¿2?. R¿3?, R¿4?, R¿5?, R¿6?, R¿7?, R¿8? et R¿9 ?représente A-X- ou A¿1?-X¿1?; A et A¿1? sont chacun indépendamment l'un de l'autre un radical tensioactif de formule III ou A¿0?. n représente, par exemple, un nombre de 1 à 1000, m un nombre de 0 à 100; p un nombre de 0 10 000. A¿0? représente, par exemple, C¿6?-C¿30?alkyle; G¿1? et G¿2? représentent, par exemple, C¿1?-C¿18?alkyle; R¿18?, R¿19?, R¿20?, R¿22?, R¿21?, R¿23?, R¿24?, R¿25?, R¿26? et R¿27? représentent, par exemple, C¿1?-C18alkyle; et X et X¿1? représentent, par exemple, une liaison simple.

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