B - Operations – Transporting – 01 – J
Patent
B - Operations, Transporting
01
J
B01J 19/08 (2006.01) B05D 3/06 (2006.01) B05D 3/10 (2006.01) B05D 3/14 (2006.01) B05D 7/00 (2006.01) B05D 7/24 (2006.01) C08J 7/18 (2006.01)
Patent
CA 2396806
The invention relates to a process for the production of strongly adherent coatings on an inorganic or organic substrate, in which process in a first step: a) the inorganic or organic substrate is subjected to the action of a low-temperature plasma discharge, a corona discharge, high-energy UV radiation or electron radiation, the radiation or discharge is then discontinued, in a further step; b) at least one electron- or H-donor, each containing at least one ethylenically unsaturated group, is applied to the inorganic or organic substrate in vacuo or at normal pressure and reacted with the free radicals formed there, and c1) the substrate so precoated with coinitiator is coated with a composition comprising at least one ethylenically unsaturated monomer or oligomer and a photoinitiator, and the coating is cured by means of electromagnetic and/or ionising radiation; or c2) the substrate so precoated with coinitiator is coated with a composition comprising at least one ethylenically unsaturated monomer or oligomer and one or more thermally activatable initiators, and the coating is cured thermally. The invention relates also the use of electron- or H-donors, for example amines, thioethers or thiols, having at least one ethylenically unsaturated group in the production of such layers and to the strongly adherent coatings themselves.
L'invention concerne un procédé de production de revêtements à forte adhérence sur un substrat inorganique ou organique. Ce procédé consiste, dans une première étape, a) à soumettre ledit substrat inorganique ou organique à une décharge de plasma à basse température, à une décharge par effet de couronne, à un rayonnement électronique ou à rayonnement UV intense, la décharge ou le rayonnement étant ensuite interrompus, puis, dans une étape suivante, b) à appliquer au moins un donneur d'électrons ou de H, contenant chacun au moins un groupe non saturé du point de vue éthylénique, sur le substrat inorganique ou organique, sous vide ou sous une pression normale, puis à le faire réagir avec les radicaux libres ainsi obtenus, et c1) à revêtir le substrat ainsi prérevêtu avec un co-amorceur d'une composition comprenant au moins un monomère ou oligomère non saturé du point de vue éthylénique et un photoamorceur, puis à faire durcir le revêtement au moyen d'un rayonnement électromagnétique et/ou ionisant ; ou c2) à revêtir le substrat ainsi prérevêtu avec le co-amorceur d'une composition comprenant au moins un monomère ou oligomère non saturé du point de vue éthylénique et un ou plusieurs amorceurs thermiquement activables, puis à durcir thermiquement le revêtement. L'invention concerne également l'utilisation de donneur d'électrons ou de H, par exemple des amines, des thioéthers ou des thiols, comprenant au moins un groupe non saturé du point de vue éthylénique, pour la production de ces couches et des revêtements à forte adhérence eux-mêmes.
Bauer Michael
Kunz Martin
Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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