Combined ablation and exposure system and method

Details Combined ablation and exposure system and method Combined ablation and exposure system and method

B - Operations, Transporting

41

N

B41N 1/14 (2006.01)

Patent

CA 2556749

An exposure system (10, 30) at least partially surrounds a photopolymer on a rotating cylinder ablation system (20, 36). A light source assembly (12, 32) linearly follows an ablation source (22, 34) and operates to expose the ablated (masked) photopolymer with high intensity illumination to expose all points on the photopolymer. In one embodiment, the light source assembly employs at least one plasma capillary light source (18, 38A, 38B) configured to illuminate the photopolymer with high intensity light .

La présente invention a trait à un système d'exposition (10, 30) entourant au moins en partie un photopolymère sur un système d'ablation rotatif de forme cylindrique (20, 36). Un ensemble de source lumineuse (12, 32) suit de manière linéaire une source d'ablation (22, 34) et fonctionne pour l'exposition du photopolymère ayant été soumis à une ablation (masqué) avec une intensité d'éclairage pour exposer tous les points sur le photopolymère. Dans un mode de réalisation, l'ensemble de source lumineuse utilise une source lumineuse capillaire à plasma (18, 38A, 38B) agencée pour éclairer le photopolymère avec un lumière d'intensité élevée.

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