Processes for production of a controlled atmosphere for...

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C - Chemistry, Metallurgy

22

F

C22F 1/02 (2006.01) C21D 1/76 (2006.01)

Patent

CA 2053503

ABREGE On élimine sensiblement tout gaz oxydant résiduel dans une enceinte de traitement, neutre ou réductrice, par injection dans cette dernière d'un hydrure de silicium à l'état gazeux, à une température comprise entre 50 et 1600°C et à une teneur telle que le rapport R de la teneur d'hydrure à lateneur de gaz oxydant à éliminer est comprise entre 1,5 et 20. La rapidité d'action des traces d'hydrure injecté permet de piloter avec précision le procédé de traitement thermique en maintenant les teneurs résiduelles en gaz oxydant au-dessous de seuils déterminés très faibles.

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