C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 401/04 (2006.01) A61K 31/435 (2006.01) A61K 31/47 (2006.01) C07D 471/04 (2006.01) C07D 498/06 (2006.01) C07F 7/22 (2006.01)
Patent
CA 2196271
A quinolone- or naphthyridone-carboxylic acid derivative having a skeleton represented by general formula (I) (see formula I) at the 7-position and being useful as an antibacterial or a salt thereof, wherein R3 represents at least one group selected from among hydrogen, halogen, optionally substituted lower alkyl, lower alkoxy, lower alkylthio, nitro, cyano, optionally protected hydroxy and optionally protected amino; R4 represents at least one group selected from among hydrogen, optionally substituted lower alkyl, lower alkylidene and a group which forms a cycloalkane ring together with the carbon atom to which R4 is bonded; and R5 represents hydrogen, optionally substituted lower alkyl or cycloalkyl.
L'invention se rapporte à un dérivé de l'acide quinolone- ou naphthyridonecarboxylique dont le squelette est représenté par la formule générale (I) à la position 7, cet acide étant utilisé comme antibactéricide, et à un sel de celui-ci. Dans cette formule, R<3> représente au moins un groupe sélectionné parmi hydrogène, halogène, alkyle inférieur éventuellement substitué, alcoxy inférieur, alkylthio inférieur, nitro, cyano, hydroxy éventuellement protégé et amino éventuellement protégé; R<4> représente au moins un groupe sélectionné parmi hydrogène, alkyle inférieur éventuellement substitué, alkylidène inférieur et un groupe qui forme un noyau cycloalcane avec l'atome de carbone auquel R<4> est lié; et R<5> représente hydrogène, ou alkyle ou cycloalkyle inférieur éventuellement substitué.
Hayashi Kazuya
Narita Hirokazu
Takahata Masahiro
Todo Yozo
Watanabe Yasuo
Marks & Clerk
Toyama Chemical Co. Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1945184