C - Chemistry – Metallurgy – 01 – B
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
01
B
C01B 17/05 (2006.01) B01D 53/52 (2006.01)
Patent
CA 2214424
On décrit un procédé et un dispositif de traitement d'un gaz contenant de l'hydrogène sulfuré et du dioxyde de soufre ayant pour but de réduire sensiblement les émissions de soufre vapeur dans les gaz traités, le procédé étant caractérisé en ce que l'on met en contact dans un réacteur-contacteur (2) gaz-liquide le gaz avec un solvant (5) et l'on récupère un gaz (20) qui est envoyé dans un second réacteur (102) où il est mis à nouveau en contact avec un solvant (105), ledit solvant étant refroidi par des moyens appropriés (190), ce qui permet de séparer une partie du soufre du solvant. Ce solvant désaturé en soufre est utilisé pour réaliser le contact avec le gaz (20) provenant du premier réacteur (2). Le gaz (120) issu du second réacteur est très appauvri en soufre vapeur. Au moins un des réacteurs contient un catalyseur.
Dezael Claude
Lecomte Fabrice
Viltard Jean-Charles
Institut Francais Du Petrole
Robic
LandOfFree
Process and device for treating a gas containing hydrogen... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Process and device for treating a gas containing hydrogen..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Process and device for treating a gas containing hydrogen... will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1956133