B - Operations – Transporting – 29 – C
Patent
B - Operations, Transporting
29
C
B29C 67/00 (2006.01) B29C 37/00 (2006.01) B44C 3/02 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01)
Patent
CA 2338041
Rapid prototyping technologies are being used to save time and money. One such method of producing a rapid phototype is that known as stereolithography. This method creates a tangible 3-D object from a CAD drawing by directing ultraviolet laser radiation onto a vat of polymer resin. The invention disclosed pertains to application of a texture or pattern to a prototype part produced from such method above. The texture or pattern is applied to the surface of the prototype part. The method involves using a photo-sensitive resist that is sprayed onto the surface of the item until a predetermined thickness is achieved. Portions of the surface are pre-selected to provide a texture or pattern. Other portions of the surface are masked or otherwise protected from exposure to a radiation source. After exposure to a light source, the unhardened photo resist is removed, leaving the exposed photo resist on the surface forming the pre-selected pattern or texture.
On utilise des techniques de prototypage rapide pour économiser du temps et de l'argent. La stéréolithographie constitue un procédé afférent de production rapide de prototypes. Ce procédé consiste à créer un objet tangible tridimensionnel à partir d'un dessin réalisé selon une technique de dessin assisté par ordinateur en dirigeant un rayon laser ultraviolet sur un bac de résine polymère. L'invention concerne l'application d'une structure ou d'un motif sur une partie du prototype produit selon le procédé décrit ci-dessus. La structure ou le motif est appliqué à la surface de la partie du prototype. Le procédé consiste à utiliser un résist photosensible qui est pulvérisé sur la surface de l'objet jusqu'à l'obtention d'une épaisseur prédéterminée. On présélectionne des parties de la surface pour former une structure ou un motif déterminé. D'autres parties de la surface sont masquées ou protégées d'une autre manière de l'exposition à une source de rayonnement. Après exposition à une source lumineuse, on retire le photorésist non durci, laissant le photorésist exposé sur la surface formant la structure ou le motif présélectionné.
Eisinger Lee
Lesperance & Martineau
LandOfFree
Application of textured or patterned surfaces to a prototype does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Application of textured or patterned surfaces to a prototype, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Application of textured or patterned surfaces to a prototype will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1963796