G - Physics – 01 – N
Patent
G - Physics
01
N
G01N 15/14 (2006.01) G06K 9/62 (2006.01)
Patent
CA 2552872
Methods for altering one or more parameters of a measurement system are provided. One method includes analyzing a sample using the system to generate values from classification channels of the system for a population of particles in the sample. The method also includes identifying a region in a classification space in which the values for the populations are located. In addition, the method includes determining an optimized classification region for the population using one or more properties of the region. The optimized classification region contains a predetermined percentage of the values for the population. The optimized classification region is used for classification of particles in additional samples.
Des procédés de modification d'un ou plusieurs paramètres d'un système de mesure. Un des procédés consiste à analyser un échantillon au moyen du système afin de générer des valeurs à partir de canaux de classification du système pour une population de particules dans l'échantillon. Le procédé consiste également à identifier une région dans un espace de classification où se trouvent les valeurs pour les populations. Le procédé consiste en outre à déterminer une région de classification optimisée pour la population au moyen d'une ou plusieurs propriétés de la région. La région de classification optimisée contient un pourcentage prédéterminé des valeurs pour la population et sert à classer les particules dans des échantillons supplémentaires.
Goudreau Gage Dubuc
Luminex Corporation
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2006831