Production of a siliceous refractory mass

Details Production of a siliceous refractory mass Production of a siliceous refractory mass

C - Chemistry, Metallurgy

04

B

C04B 35/64 (2006.01) C04B 35/14 (2006.01) C04B 35/65 (2006.01) C04B 35/66 (2006.01) F27D 1/16 (2006.01)

Patent

CA 2205894

A process is provided producing a crystalline siliceous refractory mass by projecting solid refractory particles, solid silicon particles and gaseous oxygen against a surface in such a way that reaction between the silicon particles and gaseous oxygen occurs against the surface, thereby releasing the heat of reaction against the surface so that a coherent refractory mass comprising cristobalite is formed, wherein the solid refractory particles comprise silica in the form of vitreous silica and in that the surface against which they are projected is at a temperature of a least 1000 °C. The process can be used for in situ repair of high temperature furnaces such as glassmaking furnaces or for the manufacture of high quality refractory bricks.

Procédé de fabrication d'une masse cristalline siliceuse réfractaire. On projette sur une surface des particules solides réfractaires, des particules solides de silicium et de l'oxygène gazeux de manière à ce que la réaction entre les particules de silicium et l'oxygène gazeux ait lieu contre cette surface. La chaleur dégagée par la réaction est dirigée contre la surface, entraînant ainsi la formation d'une masse cohérente réfractaire contenant de la cristobalite, et dans laquelle les particules solides réfractaires contiennent de la silice sous forme de verre de silice. La surface contre laquelle sont projetées les particules doit être chauffée à une température d'au moins 1000 DEG C. Ce procédé peut être employé pour effectuer des réparations sur site de fours à haute température, tel que les fours employés dans la verrerie ou dans la fabrication de briques réfractaires de haute qualité.

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