Process for manufacturing optical data storage disk stamper

G - Physics – 11 – B

Patent

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G11B 7/26 (2006.01) B29C 45/26 (2006.01) B29D 17/00 (2006.01) G11B 23/00 (2006.01)

Patent

CA 2195109

A process for manufacturing an optical data storage disk stamper includes the steps of providing a chemically vapor-deposited, silicon carbide substrate having a toughness of about 4.5 MPam, a roughness of about 1 nm, and a flatness of about 6 µm and depositing a negative photoresist on a surface of the substrate. The substrate has a diameter greater than about 120 mm and a thickness greater than about one mm. The negative photoresist then is exposed with a laser to form a negative, data pattern in the photoresist. The photoresist is developed, and the ceramic substrate is ion machined to form the data pattern, in the substrate, such that a spiral track of ridges and lands is formed wherein each ridge has a height of about in a range of 20 to 200 nm. After the data pattern has been ion machined into the substrate, the developed photoresist is stripped from the substrate.

Un procédé de fabrication d'une matrice de disques optiques numériques comprend les étapes de création d'un substrat en carbure de silicium déposé en phase vapeur par un procédé chimique, ayant une dureté de 4,5 Pa ?m environ, une rugosité d'environ 1 nm et une planéité d'environ 6 µm, et de dépôt d'une couche photosensible négative à la surface du substrat. Le substrat a un diamètre supérieur à 120 mm et une épaisseur supérieure à un millimètre environ. La couche photosensible négative est ensuite exposée par laser pour former un schéma de données négatif sur la couche photosensible. La couche photosensible est développée et le substrat en céramique est soumis à un usinage ionique pour former le schéma de données dans le substrat, de façon à former une piste en spirales formée de crêtes et de creux dans laquelle chaque crête a une hauteur comprise entre 20 et 200 nm environ. Une fois le schéma de données réalisé par usinage ionique dans le substrat, la couche photosensible développée est enlevée du substrat.

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