Planar heating element

H - Electricity – 05 – B

Patent

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H05B 3/20 (2006.01) H05B 3/03 (2006.01) H05B 3/12 (2006.01) H05B 3/14 (2006.01) H05B 3/24 (2006.01) H05B 3/26 (2006.01) H05B 3/28 (2006.01)

Patent

CA 2256616

A planar heating element in which a plurality of electrode coating members (4) respectively coating electrodes (3) are attached to a planar heating resistor sheet (2) at prescribed intervals. In each electrode coating member (4), at least the vicinity of the electrode (3) is constituted of a PTC layer having a positive temperature coefficient characteristic that the electrical resistance value of the PTC layer increases as the temperature rises. The sheet (2) does not have a positive temperature coefficient characteristic or has a positive temperature coefficient characteristic that the rise magnification of the sheet (2) is smaller than that of the PTC layer or the rise temperature of the sheet (2) is higher than that of the PTC layer at temperatures lower than the temperature at which the PTC layer exhibits the maximum rise magnification.

L'invention concerne un élément chauffant planar dans lequel une pluralité d'éléments de recouvrement d'électrode (4) recouvrant respectivement des électrodes (3) sont fixés, à intervalles définis, à une feuille (2) formant une résistance chauffante planar. Dans chaque élément de recouvrement d'électrode (4), au moins la région voisine de l'électrode (3) est constituée d'une couche CTP présentant une caractéristique de coefficient de température positif telle que la valeur de la résistance électrique de la couche CTP augmente à mesure que la température s'élève. La feuille (2) ne présente pas une caractéristique de coefficient de température positif ou bien présente une caractéristique de coefficient de température positif telle que l'amplification de la montée en température de la feuille (2) est inférieure à celle de la couche CTP ou bien que la montée en température de la feuille (2) est supérieure à celle de la couche CTP à des températures inférieures à la température à laquelle la couche CTP présente l'amplification de montée en température maximale.

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