C - Chemistry – Metallurgy – 08 – L
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
L
C08L 101/04 (2006.01) B01F 17/00 (2006.01) C11D 1/00 (2006.01)
Patent
CA 2554292
Production processes and systems are provided that include reacting halogenated compounds, dehalogenating compounds, reacting alcohols, reacting olefins and a saturated compounds, reacting reactants having at least two -CF3 groups with reactants having cyclic groups. RF-compositions such as RF- intermediates, RF-surfactants, RF~monomers, RF-monomer units, RF-metal complexes, RF-phosphate esters, RF-glycols, RF~urethanes, and/or RF-foam stabilizers. The RF portion can include at least two -CF3 groups, at least three -CF3 groups, and/or at least two -CF3 groups and at least two -CH2- groups. Detergents, emulsifiers, paints, adhesives, inks, wetting agents, foamers, and defoamers including the RF-surfactant composition are provided. Acrylics, resins, and polymers are provided that include a RF-monomer unit. Compositions are provided that include a substrate having a RF-composition thereover. Aqueous Film Forming Foam ("AFFF") formulations are provided that can include RF~surfactants and/or RF-foam stabilizers are provided.
La présente invention concerne des procédés et des systèmes de production consistant à mettre en réaction des composés halogénés, à déshalogéner des composés, à mettre en réaction des alcools, à mettre en réaction des oléfines avec un composé saturé, à mettre en réaction des réactifs présentant au moins deux groupes -CF3 avec des réactifs présentant des groupes cycliques. La présente invention concerne également des compositions R<SB>F</SB>, telles que des intermédiaires R<SB>F</SB>, des agents tensioactifs R<SB>F</SB>, des monomères R<SB>F</SB>, des unités monomères R<SB>F</SB>, des complexes métalliques R<SB>F</SB>, des esters phosphoriques R<SB>F</SB>, des glycols R<SB>F</SB>, des uréthannes R<SB>F </SB>et/ou des stabilisateurs de mousse R<SB>F</SB>. La partie R<SB>F</SB> peut comprendre au moins deux groupes -CF3, au moins trois groupes -CF3 et/ou au moins deux groupes -CF3 et au moins deux groupes -CH2. Cette invention concerne aussi des détergents, des émulsifiants, des peintures, des adhésifs, des encres, des agents mouillants, des agents moussants et des agents antimousse comprenant ladite composition d'agent tensioactif R<SB>F</SB>. L'invention concerne aussi des acryliques, des résines et des polymères qui comprennent une unité monomère R<SB>F</SB>. Elle concerne également des compositions qui comprennent un substrat sur lequel se trouve une composition R<SB>F</SB>. En outre, cette invention concerne des préparations de mousse à formation de pellicule aqueuse (<= AFFF >=) qui comprennent des agents tensioactifs R<SB>F</SB> et/ou des stabilisateurs de mousse R<SB>F</SB>.
Ameduri Bruno
Boggs Janet
Brandstadter Stephan M.
Chien John
Edwards E. Bradley
Gowling Lafleur Henderson Llp
Great Lakes Chemical Corporation
LandOfFree
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