Method of forming waveguides via controlled delamination and...

G - Physics – 02 – B

Patent

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Details

G02B 6/12 (2006.01) G02B 6/13 (2006.01) G02B 6/132 (2006.01)

Patent

CA 2681264

A method of forming a waveguide is disclosed, as well as the waveguide itself. A multilayer stack of light guiding layers is formed, and the multilayer stack is delaminated between light guiding layers to form a waveguide between the light guiding layers. The multilayer stack is delaminated in a patterned region between light guiding layers. Here a new approach is described, wherein hollow microchannels forming a Bragg waveguide assembly are fabricated by controlled formation of thin film delamination buckles within a multilayer stack. A hollow waveguide is formed by alternating layers of the multilayer stack forming light guiding surfaces. The hollow waveguide is formed between layers that delaminate from each other, as for example under applied stress to one or more of the layers. The multi-layer stack may be formed of alternating layers of low and high index of refraction materials, as for example forming omni-directional dielectric reflectors. Metal cladding of the waveguiding layers is also provided in one embodiment, as for example by providing a metal base layer and a cap layer. Methods of assembly are disclosed, as well as the assemblies themselves.

L'invention concerne un procédé de formation d'un guide d'ondes, ainsi que le guide d'ondes lui-même. Un empilement multicouche de couches de guidage de lumière est formé, et l'empilement multicouche est délaminé entre des couches de guidage de lumière pour former un guide d'ondes entre les couches de guidage de lumière. L'empilement multicouche est délaminé dans une région à motifs entre des couches de guidage de lumière. Une nouvelle approche est ici décrite, dans laquelle des microcanaux creux formant un ensemble de guides d'ondes de Bragg sont fabriqués par la formation contrôlée de gondolements de délaminage de film mince à l'intérieur d'un empilement multicouche. Un guide d'ondes creux est formé par l'alternance de couches de l'empilement multicouche formant des surfaces de guidage de lumière. Le guide d'ondes creux est formé entre des couches qui se délaminent les unes des autres, comme par exemple sous une contrainte appliquée à l'une ou plusieurs des couches. L'empilement multicouche peut être formé de couches alternées de matériaux à indice de réfraction faible et élevé, comme par exemple par la formation de réflecteurs diélectriques omnidirectifs. Un revêtement métallique des couches guidant les ondes est également prévu dans un mode de réalisation, comme par exemple par la disposition d'une couche de base de métal et d'une couche de recouvrement. L'invention concerne également des procédés d'assemblage, ainsi que les assemblages eux-mêmes.

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