G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/027 (2006.01)
Patent
CA 2369025
A photosensitive polymerisable composition, which comprises at least one cyclic and/or oligomeric compound composed of structural units of formula (I), wherein R is identical or different radicals of formula -(A)-O-C(O)-C(R1)=CH2, and R1 is hydrogen or methyl, A is a transition group, and n is an integer from 3 to 18, preferably 3 or 4 and, most preferably, 3, and the use of this composition as photostructurable solder stopping resist for the production of solder masks for printed circuit boards.
L'invention concerne une composition photosensible polymérisable, comprenant au moins un composé cyclique et/ou oligomère constitué de motifs structuraux de formule (I), dans laquelle les groupes R représentent des radicaux identiques ou différents de formule -(A)-O-C(O)-C(R¿1?)=CH¿2?, où R¿1? représente hydrogène ou méthyle, A représente un groupe de transition, et n est un entier compris entre 3 et 18, de préférence égal à 3 ou à 4, de façon idéale égal à 3. L'invention concerne également l'utilisation de cette composition comme résist de soudure photostructurable pour la production de masques de soudure destinés à des cartes de circuits imprimés.
Fetherstonhaugh & Co.
Vantico Ag
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2072149