C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 14/06 (2006.01) C09K 11/77 (2006.01) C09K 11/84 (2006.01) C23C 14/00 (2006.01)
Patent
CA 2447626
A method of deposition of a phosphor in a single-source sputtering process, in which the phosphor is selected from the group consisting of ternary, quaternary or higher thioaluminate, thiogallate and thioindate phosphors, and composites thereof, synthesized with cations selected from Groups IIA and IIB of the Periodic Table of Elements. The phosphor is of a pre-determined composition of elements. The method comprising sputtering in a hydrogen sulphide atmosphere from a single source composition so as to deposit a composition on a substrate. The composition of the targets of the single source has a relative increase in concentration of elements of the phosphor that have a lower atomic weight compared to other elements in said phosphor. The relative increase is controlled such that deposition of the pre-determined composition is effected on the substrate. Preferred phosphors are barium thioaluminate (BaAl2S4:Eu), and barium magnesium thioaluminates.
La présente invention concerne un procédé de dépôt d'un phosphore dans un processus de pulvérisation à source unique, dans lequel le phosphore est sélectionné dans le groupe comprenant des phosphores de thioaluminate, thiogallate et thioindate ternaires, quaternaires ou supérieurs, et des composites desdits phosphores, synthétisés à l'aide de cations sélectionnés dans les groupes IIA et IIB du tableau périodique des éléments. Le phosphore présente une composition prédéterminée d'éléments. Le procédé consiste à pulvériser dans une atmosphère de sulfure d'hydrogène à partir d'une composition de source unique, de manière à déposer une composition sur un substrat. La composition des cibles de la source unique présente une augmentation relative de la concentration d'éléments du phosphore qui présentent un poids atomique inférieur comparé à d'autres éléments présents dans ledit phosphore. L'augmentation relative est régulée de telle sorte que le dépôt de la composition prédéterminée est effectué sur le substrat. Les phosphores préférés sont le thioaluminate de baryum (BaAl¿2?S¿4?:Eu) et les thioaluminates de magnésium de baryum.
Ifire Ip Corporation
Ifire Technology Inc.
Sim & Mcburney
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2091718