C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 217/02 (2006.01) C07D 217/04 (2006.01) C07D 217/16 (2006.01) C07D 217/18 (2006.01) C07D 217/26 (2006.01) C07F 7/10 (2006.01) C07F 9/60 (2006.01)
Patent
CA 2643493
A novel class of chiral ligands represented by a structure of Formula (I): wherein R1, R2, R3, R4 and R5 are independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, C1-10 alkyl, C2-10 alkenyl, C 2-10 alkynyl, C1-10 alkoxy, C(O)R6, C(O)NHR6, Si(R6)3, benzyl and aryl; X is selected from the group consisting of OH, OR7, O-Prot and P(R7)2 where Prot represents a protecting group; and R6 and R7 are selected from the group consisting of hydrogen, C1-10 alkyl, C2-10 alkenyl, C2-10 alkynyl, C1-10 alkoxy, phenyl, and aryl is disclosed herein.
L'invention concerne une nouvelle classe de ligands chiraux répondant à la formule (I), dans laquelle : R1, R2, R3, R4 et R5 sont chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un halogène, un groupe alkyle en C1 à C10, un alcényle en C2 à C10, un alcynyle en C2 à C10, un alcoxy en C1 à C10, un groupe C(O)R6, un groupe C(O)NHR6, un groupe Si(R6)3, un groupe benzyle ou un groupe aryle ; X est choisi dans le groupe comprenant OH, OR7, O-Prot et P(R7)2, Prot représentant un groupe protecteur ; et R6 et R7 sont chacun un hydrogène, un alkyle en C1 à C10, un alcényle en C2 à C10, un alcynyle en C2 à C10, un alcoxy en C1 à C10, un groupe phényle ou un groupe aryle.
Feng Jianqing
Li Chao-Jun
Li Zhiping
Mcleod Patricia
Bereskin & Parr Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
Li Chao-Jun
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1653481