C - Chemistry – Metallurgy – 07 – J
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
J
C07J 41/00 (2006.01) A61K 31/56 (2006.01) C07J 1/00 (2006.01) C07J 43/00 (2006.01)
Patent
CA 2126158
PRECIS DE LA DIVULGATION: L'invention a pour objet les composés de formule (I) : Image (I) dans laquelle, R17 et R'17 sont tels que soit R17 et R'17 forment ensemble une cétone soit R17 représente un radical hydroxyle, ou un radical acyloxy et R'17 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, alcényle ou alcynyle, R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle ou un radical acyle, R1 et R2 identiques ou différents, repré- sentent un atome d'hydrogène, un radical alkyle, éventuelle- ment substitué, un radical acyle, un radical aryle ou aralkyle, éventuellement substitué, un radical alkyle, aralkyle ou aryle carbamoyle éventuellement substitué, ou forment avec l'atome d'azote auquel ils sont liés un hétérocycle saturé pouvant renfermer un second hétéroatome choisi parmi N, O et S et être substitué, ou forment un radical dialkylaminométhylène, n est égal au plus à 18, et les sels d'addition de ceux-ci, leur préparation, leur application comme médicaments, les compositions les renfer- mant et les nouveaux intermédiaires obtenus.
Nique Francois
Teutsch Jean-Georges
Van de Velde Patrick
Aventis Pharma S.a.
Robic
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1499519