C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
260/310.5
C07D 277/38 (2006.01)
Patent
CA 1132575
PRECIS DE LA DIVULGATION: L'invention a pour objet des acides de formule générale: Image (III) dans laquelle R2 représente un groupement facilement éliminable par hydrolyse acide ou par hydrogénolyse ou un radical chloro- acétyle, R3 représente soit un groupement CO2R"1 dans lequel R" 1 représente un radical alkyle ayant de 1 à 3 atomes de carbone, ou un groupement ester facilement éliminable par hydrolyse acide ou par hydrogénolyse, soit un radical nitrile, soit un radical carbomoyle - CONH2, R' et R" , identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène ou un radical alkyle ayant de 1 à 3 atome de carbone, le groupement Image se trouvant dans la position syn. L'invention a également pour objet un procédé de préparation de ces acides qui sont notamment utilisables comme intermé- diaires dans la préparation d'oximes dérivées de l'acide 3-acétométhyl 7-amino thiazolyl acétamido céphalosporanique à usage antibiotique sur les bactéries gram (+) et gram (-).
379842
Robic Robic & Associes/associates
Roussel-Uclaf
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-417998