C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
260/493.1, 260/5
C07C 33/34 (2006.01) A61K 8/67 (2006.01) C07C 39/17 (2006.01) C07C 43/164 (2006.01) C07C 43/168 (2006.01) C07C 45/30 (2006.01) C07C 47/235 (2006.01) C07C 47/546 (2006.01) C07C 49/792 (2006.01) C07C 63/49 (2006.01) C07C 65/17 (2006.01) C07C 65/26 (2006.01)
Patent
CA 1247132
PRECIS DE LA DIVULGATION: L'invention concerne des dérivés 2,6-disubstitués du naphtalène répondant à la formule suivante: Image (I) dans laquelle n est 1 ou 2, R1 à R4 est H ou CH3, R5 est (i) Image , (ii) - C?N, (iii) - ? - R8 ou (iv) le radical 2- oxazolinyle, m est 0 ou 1, R6 est H, alkyle, OR9, R9 étant H, alkyle ou-?- R10, R10 étant alkyle ou aryle, ou R6 est Image lorsque m = 1, r' et r" représentant H, alkyle, mono ou poly hydroxyalkyle, aryle ou un hétérocycle lorsqu'ils sont pris ensemble, R7 est H ou alkyle, R8 est H, alkyle et les acétals desdits composés et les sels desdits composés de formule (I). L'invention concerne également un procédé pour la préparation de ces dérivés. Ces dérivés trouvent notamment une application dans les domaines pharmaceutique et cosmétique.
468729
Bouclier Martine
Eustache Jacques
Shroot Braham
Centre International de Recherches Dermatologiques (c.i.r.d.)
Robic Robic & Associes/associates
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1276057