C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 239/84 (2006.01) A61K 31/517 (2006.01) A61P 3/10 (2006.01) A61P 9/10 (2006.01) A61P 11/08 (2006.01) A61P 13/04 (2006.01) A61P 19/10 (2006.01) A61P 25/00 (2006.01) A61P 29/00 (2006.01) A61P 43/00 (2006.01) C07D 401/04 (2006.01) C07D 405/04 (2006.01) C07D 409/04 (2006.01)
Patent
CA 2560098
A 2-aminoquinozoline derivative represented by the formula (I) (wherein R1 and R2 are the same or different and each represents hydrogen, (un)substituted lower alkyl, etc.; R3 represents (un)substituted aryl, (un)substituted aromatic heterocyclic group, etc.; R4 and R5 are the same or different and each represents hydrogen, halogeno, (un)substituted lower alkyl, (un)substituted aryl, etc., provided that not both are hydrogen; and R6represents hydroxy or (un)substituted lower alkoxy) or a pharmacologically acceptable salt of the derivative.
Dérivé de 2-aminoquinozoline représenté par la formule (I) (dans laquelle R?1¿ et R?2¿ sont identiques ou différents et représentent chacun un hydrogène, un alkyle inférieur substitué ou non, etc. ; R?3¿ représente un aryle substitué ou non, un groupe hétérocyclique aromatique substitué ou non, etc. ; R?4¿ et R?5¿ sont identiques ou différents et représentent chacun un hydrogène, un halogéno, un alkyle inférieur substitué ou non, un aryle substitué ou non, etc., à condition que les deux ne soient pas un hydrogène ; et R?6¿ représente un hydroxy ou un alcoxy inférieur substitué ou non) ou sel acceptable du point de vue pharmacologique du dérivé.
Atsumi Eri
Fuse Eiichi
Kurasawa Mariko
Nakasato Yoshisuke
Nomoto Yuji
Goudreau Gage Dubuc
Kyowa Hakko Kirin Co. Ltd.
Kyowa Hakko Kogyo Co. Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1840841