C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 233/54 (2006.01) A61K 31/415 (2006.01) C07D 233/84 (2006.01) C07D 401/04 (2006.01) C07D 401/12 (2006.01) C07D 405/04 (2006.01) C07D 409/04 (2006.01)
Patent
CA 2195846
A class of compounds is described for treating inflammation and inflammation- related disorders. Compounds of particular interest are defined by formula (I), wherein R1 is selected from lower alkyl, lower haloalkyl, lower hydroxyalkyl, lower alkoxyalkyl, lower alkenyloxyalkyl, mercapto, lower alkylcarbonyl, lower haloalkylcarbonyl, phenylcarbonyl, lower aralkylcarbonyl, lower aralkenyl, lower aryloxyalkyl, lower aralkyloxyalkyl, lower arylsulfonyl, lower aralkylsulfonyl, lower arylthioalkyl, lower heteroarylalkylthioalkyl, and heteroaryl selected from 2-thienyl, 2-furyl, 3- furyl, 2-pyridyl, 4-pyridyl and 2-benzofuryl; wherein R2 and R3 are independently selected from heteroaryl, cycloalkyl and aryl, wherein the heteroaryl, cycloalkyl and aryl radicals are substituted at a substitutable position with one or more radicals selected from hydrido, halo, lower alkylthio, lower alkylsulfinyl, lower alkylsulfonyl, aminosulfonyl, lower alkyl, cyano, carboxyl, lower alkoxycarbonyl, lower haloalkyl, hydroxyl, lower alkoxy, lower hydroxyalkyl, lower alkoxyalkyl, lower haloalkoxy, amino, lower alkylamino, phenylamino and nitro; and wherein R4 is selected from hydrido, lower alkyl and acyl; or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
La présente invention concerne une classe de composés convenant au traitement de l'inflammation et des troubles liés à l'inflammation. Les composés concernés en l'occurrence sont décrits par la formule générale (I). Dans cette formule générale (I), "R?1¿" est choisi parmi alkyle inférieur, haloalkyle inférieur, hydroxyalkyle inférieur, alcoxyalkyle inférieur, alcényloxyalkyle inférieur, mercapto, alkylcarbonyle inférieur, haloalkylcarbonyle inférieur, phénylcarbonyle, aralkylcarbonyle inférieur, aralcényle inférieur, aryloxyalkyle inférieur, aralkyloxyalkyle inférieur, arylsulfonyle inférieur, aralkylsulfonyle inférieur, arylthioalkyle inférieur, hétéroarylalkylthioalkyle inférieur, et hétéroaryle choisi parmi 2-thiényle, 2-furyle, 3-furyle, 2-pyridyle, 4-pyridyle et 2-benzofuryle. Dans la formule générale (I), "R?2¿" et "R?3¿" sont choisis séparément parmi hétéroaryle, cycloalkyle et aryle, les radicaux hétéroaryle, cycloalkyle et aryle étant substitués à des positions admettant la substitution par un ou plusieurs radicaux choisis parmi hydrido, halo, alkylthio inférieur, alkylsulfinyle inférieur, alkylsulfonyle inférieur, aminosulfonyle, alkyle inférieur, cyano, carboxyle, alcoxycarbonyle inférieur, haloalkyle inférieur, hydroxyle, alcoxy inférieur, hydroxyalkyle inférieur, alcoxyalkyle inférieur, haloalcoxy inférieur, amino, alkylamino inférieur, phénylamino et nitro. Dans la formule générale (I), "R?4¿" est choisi parmi hydrido, alkyle inférieur et acyle. L'invention concerne également des sels de ces composés de formule générale qui sont pharmaceutiquement acceptables.
Barta Thomas E.
Collins Paul W.
Huff Renee M.
Stealey Michael A.
Weier Richard M.
G.d. Searle & Co.
Osler Hoskin & Harcourt Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2013423