C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 263/28 (2006.01) A61K 31/42 (2006.01) A61K 31/44 (2006.01) C07D 413/12 (2006.01)
Patent
CA 2162106
Composés de formule (I): Image dans laquelle: R1 et R2 sont choisis indépendamment l'un de l'autre parmi l'hydrogène ou un radical alkyle, A est choisi parmi les radicaux: Image dans lesquels: R3 représente un radical choisi parmi halogène, alkyle, alkoxy, amino, alkylamino, dialkylamino, carboxy, alkylcarbonyle, alkoxycarbonyle, trifluorométhyle, et cyano, R4, R5, R6, R7 et R8 sont choisis chacun indépendamment l'un de l'autre parmi l'hydrogène, un halogène, un radical alkyle, alkoxy, amino, alkylamino, dialkylamino, carboxy, alkoxycarbonyle, cyano et trifluorométhyle, R9 représente le radical nitro, avec la réserve que A ne peut pas représenter un groupement choisi parmi: dihalogénophényle, trihalogénophényle, 4-méthylphényle, 4-chlorophényle, 4-méthoxyphényle, 4-tert-butylphènyle et 3-(diméthylamino)phényle.
Bosc Jean-Jacques
Forfar Isabelle
Guardiola Beatrice
Jarry Christian
Renard Pierre
Les Laboratoires Servier
Ogilvy Renault
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1842530