A device for centering a microtiter plate

B - Operations – Transporting – 01 – L

Patent

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Details

B01L 9/00 (2006.01) G01N 35/10 (2006.01)

Patent

CA 2745680

A pipetting aid device is provided that in-cludes a support comprising a first face, a plurality of light elements mounted in the support to form a two-di-mensional array in the plane of the first face, a first center-ing structure, and a second centering structure. The first centering structure and the second centering structure are mounted to extend from the first face of the support. The first centering structure includes a first pair and a second pair of stop walls, wherein a pair of stop walls forms a corner. The second centering structure includes a third pair and a fourth pair of stop walls. The first pair and the third pair of stop walls form corners of a first positioning zone of a first type of plate. The second pair and the fourth pair of stop walls form corners of a second posi-tioning zone of a second type of plate. The first centering structure and the second centering structure are positioned outside both the first positioning zone and the second po-sitioning zone.

Linvention concerne un dispositif dassistance au pipetage comprenant un support renfermant une première face, une pluralité déléments lumineux montés dans le support pour constituer une matrice en deux dimensions dans le plan de la première face, une première structure de centrage, et une seconde structure de centrage. La première structure de centrage et la seconde structure de centrage sont montées pour s'étendre à partir de la première face du support. La première structure de centrage contient une première paire et une seconde paire de parois de butée, une paire de parois de butée formant un coin. La seconde structure de centrage contient une troisième paire et une quatrième paire de parois de butée. La première paire et la troisième paire de parois de butée constituent les coins dune première zone de positionnement d'un premier type de plaque. La seconde paire et la quatrième paire de parois de butée constituent les coins d'une seconde zone de positionnement d'un second type de plaque. La première structure de centrage et la seconde structure de centrage sont positionnées à lextérieur à la fois de la première zone de positionnement et de la seconde zone de positionnement.

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