G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/004 (2006.01) B41C 1/10 (2006.01) G03F 7/027 (2006.01) G03F 7/09 (2006.01) G03F 7/11 (2006.01) G03F 7/16 (2006.01) G03F 7/18 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01) B41M 1/06 (2006.01)
Patent
CA 2393807
An offset plate sensitive to UV or visible light, prepared simply and imaged digitally therewith in a CTP method, and also processed in a simple manner. The plate is provided as a photopolymer plate with increased sensitivity, and is used in a simple imaging-on-press system, using the surface of a lithographic printing cylinder itself as a plate substrate. The method of preparing the printing plate begins by applying a photosensitive liquid coating to the substrate, digitally imaging the coated substrate, using an actinic light source to polymerize portions of the liquid coating in accordance with the imaging, and washing the liquid coating with an aqueous solution after the imaging to remove unpolymerized portions of the liquid coating. The typical constraints on coatings for offset lithographic plates are removed by utilizing sticky or wet layers as coatings so that little or no binder is present to interfere with the sensitivity or ease of processing.
L'invention concerne une plaque offset sensible à la lumière ultraviolette ou visible, préparée simplement et soumise à une imagerie numérique dans le cadre d'un procédé du type direct ordinateur/plaque, et également traitée simplement. Il s'agit d'une plaque en photopolymère à sensibilité accrue, utilisée sur un système simple d'imagerie sur presse, et l'on utilise en outre la surface d'un cylindre d'impression lithographique comme substrat de plaque. Le procédé de prépration de la plaque consiste à appliquer d'abord un revêtement liquide photosensible au substrat, puis à engager l'imagerie numérique du substrat revêtu, en utilisant une source de lumière actinique pour polymériser des parties du revêtement liquide conformément à l'imagerie, puis à laver le revêtement liquide avec une solution aqueuse après l'imagerie afin d'éliminer les parties polymérisées de ce revêtement. Les contraintes types relatives aux revêtements pour plaques d'impression lithographiques sont éliminées par le biais de couches collantes ou mouillées, qui tiennent lieu de revêtements, moyennant quoi la quantité de liant gênant la sensibilité ou la facilité de traitement est faible ou nulle.
Bereskin & Parr Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
Creo-Scitex Corporation Ltd.
Kodak I. L. Ltd
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1822285