H - Electricity – 01 – J
Patent
H - Electricity
01
J
H01J 37/302 (2006.01) H01J 37/317 (2006.01)
Patent
CA 2322972
A lithography method and apparatus which represent a substrate surface as gray level values and determine a shape data that specifies a shape and position of a flash field. The apparatus receives a pattern in a vector format, represents the substrate surface as a grid of pixels, and then represents each pixel as a gray level value specifying a proportion of the pixel that includes the pattern. Subsequently the apparatus constructs a matrix of a quadrant of four pixels and surrounding pixels, modifies the matrix so that three intermediate shapes corresponding to an exposed region of the quadrant may be provided, determines an intermediate shape data of the quadrant; and performs a reverse modification on the shape to determine the shape data that specifies a flash field.
L'invention concerne un appareil et un procédé de lithographie qui représentent une surface de substrat sous forme de valeurs de niveaux de gris et déterminent les données de forme qui indiquent une forme et une position d'un champ de flash. L'appareil reçoit un motif dans un format vectoriel, représente la surface du substrat comme une grille de pixels puis représente chaque pixel comme une valeur de niveau de gris indiquant une proportion du pixel qui comprend le motif. L'appareil construit ensuite une matrice constituée d'un quadrant de quatre pixels et de pixels environnants, modifie la matrice de manière à fournir trois formes intermédiaires correspondant à une région exposée du quadrant, détermine les données relatives à une forme intermédiaire du quadrant et, enfin, effectue une modification inverse pour déterminer les données de forme qui indiquent un champ de flash.
Boegli Volker
Hofmann Ulrich
Rishton Stephen A.
Wang Weidong
Etec Systems Inc.
Osler Hoskin & Harcourt Llp
LandOfFree
A method and apparatus that determines charged particle beam... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with A method and apparatus that determines charged particle beam..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and A method and apparatus that determines charged particle beam... will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-2031906