C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 295/10 (2006.01) A61K 31/4468 (2006.01) A61K 31/495 (2006.01) A61K 31/5375 (2006.01) A61P 35/00 (2006.01) C07D 211/46 (2006.01) C07D 211/58 (2006.01) C07D 213/54 (2006.01) C07D 295/18 (2006.01) C07D 295/20 (2006.01) C07D 295/22 (2006.01)
Patent
CA 2647445
New histone deacetylase inhibitors according to the general formula (I) wherein: Q is a bond, CH2, CH-NR3R4, NR5 or oxygen, X is CH or nitrogen, Y is a bond, CH2, oxygen or NR6, Z is CH or nitrogen, R1, R2 are, independently, hydrogen, halogen, C1-C6 alkyl or C1-C6 haloalkyl, R11, R12 are, independently, hydrogen or C1-C6 alkyl, and R3, R4, R5 and R6 are as further defined in the specification.
La présente invention concerne de nouveaux inhibiteurs de l'histone désacétylase de formule générale (I) dans laquelle : Q représente une liaison, un groupe CH2, un groupe CH-NR3R4, un groupe NR5 ou un atome d'O, X représente un groupe CH ou un atome de N, Y représente une liaison, un groupe CH2, un atome d'O ou un groupe NR6, Z représente un groupe CH ou un atome de N, R1 et R2 représentent indépendamment un atome d'hydrogène, un halogène, un groupe alkyle en C1 à C6 ou un groupe halogénoalkyle en C1 à C6, R11 et R12 représentent indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle en C1 à C6, et R3, R4, R5 et R6 sont en outre définis dans la description.
Colombo Andrea
Gagliardi Stefania
Mai Antonello
Minucci Saverio
Pain Gilles
Bereskin & Parr Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
Dac S.r.l.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1491659