A process for manufacturing microstructure bodies

Details A process for manufacturing microstructure bodies A process for manufacturing microstructure bodies

G - Physics

03

F

G03F 7/20 (2006.01)

Patent

CA 2247777

In order to manufacture microstructures by the LIGA process, plastic layers are deeply irradiated across the image-area with X-ray radiation. The areas of the plastic layers that have been rendered soluble or have remained soluble are removed selectively by means of a developer. Known plastics require a considerable outlay for irradiation. In the process according to the present invention, photo-hardened epoxy lacquers are used; these require considerably shorter irradiation time compared to known plastics. The microstructures can have a larger aspect ratio and can be developed without any faults even at greater structure depths. The structure precision that is achieved is in the sub-micrometer range. The process makes it possible to manufacture deep microstructures of very good quality, and to do so economically and with reduced irradiation outlay.

Pour fabriquer des microstructures au moyen du procédé LIGA, des couches de plastique sont irradiées en profondeur sur toute la surface image au moyen de rayons X. Les zones des couches de plastique rendues ou demeurées solubles sont éliminées de façon sélective au moyen d'un développateur. Les plastiques connus requièrent un flux considérable de rayonnements. Selon le procédé proposé par la présente invention, des laques époxydes photodurcissables sont utilisées, ces dernières ne nécessitant qu'une brève exposition aux rayonnements par opposition à la durée d'exposition nécessaire pour les plastiques connus. Les microstructures peuvent présenter un rapport de forme plus important et peuvent être développées sans défauts, même à des profondeurs plus importantes. La précision de la structure ainsi obtenue se mesure en sous-microns. Le procédé permet de fabriquer des microstructures profondes de très bonne qualité, et ce de façon économique et avec un flux de rayonnement moins important.

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