C - Chemistry – Metallurgy – 08 – G
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
G
C08G 63/08 (2006.01) A61L 17/00 (2006.01) A61L 17/10 (2006.01) A61L 17/12 (2006.01) A61L 17/14 (2006.01) A61L 27/18 (2006.01) A61L 31/00 (2006.01) A61L 31/06 (2006.01) C08G 63/664 (2006.01) C08L 67/04 (2006.01)
Patent
CA 2199918
This invention provides various copolymers comprising a first repeating unit of the chemical formula: ( see fig. I ) in which R1 and/or R2 are alkyl groups and a second repeating units generally having the chemical formula: ( see fig. II ) ( see fig. III ) ( see fig. IV ) ( see fig. V ) ( see fig. VI ) ( see fig. VII ) and combinations of two or more thereof wherein R is a hydrogen atom or a methyl group and the first repeating unit is less than 45 weight percent of the total weight of the copolymer. This invention also relates to use of these copolymers in the fabrication of absorbable surgical devices such as sutures and as coatings for medical devices. Additionally, described are blends and polyoxaesters containing the first repeating unit.
La présente invention fournit divers copolymères comprenant un premier motif dont la formule chimique est : (voir fig. I ) où R1 et/ou R2 sont des groupes alkyle et un second motif ayant généralement la formule chimique suivante : (voir fig. II ) (voir fig. III ) (voir fig. IV ) (voir fig. V ) (voir fig. VI ) (voir fig. VII ) et des combinaisons de deux de ces derniers ou plus où R est un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle et le premier motif représente moins de 45 % en poids du poids total du copolymère. La présente invention concerne également l'utilisation de ces copolymères dans la fabrication de matériels chirurgicaux absorbables comme du fil à suturer et des revêtements de matériels médicaux. De plus, on décrit des mélanges et des polyoxaesters contenant le premier motif.
Ace Constance L.
Arnold Steven C.
Bezwada Rao S.
Ethicon Inc.
Swabey Ogilvy Renault
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1916900