C - Chemistry – Metallurgy – 07 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
F
C07F 7/18 (2006.01) C03C 17/30 (2006.01) C08L 83/04 (2006.01) C08L 83/06 (2006.01) C09D 4/00 (2006.01) C09D 183/04 (2006.01)
Patent
CA 2413726
An absorbing ether-like compound including a siliconethoxy, silicondiethoxy, or silicontriethoxy species attached to a naphthalene or anthracene chromophore via an oxygen linkage is used as an organic light-absorbing compound. The absorbing ether-like compound is incorporated into spin-on glass materials to provide anti-reflective coating materials for deep ultraviolet photolithography. A method of synthesizing the light-absorbing ether compounds is based on the reaction of an alcohol-substituted chromophore with an acetoxysilicon compound in the presence of alcohol. A method of making absorbing spin-on-glass materials including the absorbing ether-like compounds is also provided.
L'invention concerne un composé absorbant de type éther contenant une espèce chimique de silicium-éthoxy, silicium-diéthoxy ou silicium-triéthoxy liée par une liaison oxygène à un chromophore dérivé du naphtalène ou de l'anthracène, ledit composé étant utilisé comme composé organique absorbant la lumière. Le composé absorbant de type éther est incorporé dans des matériaux SOG (<= spin-onglass >=) pour former des matériaux pour couches antireflet dans le domaine de la photolithographie par ultraviolets profonds. L'invention concerne également un procédé de synthèse des composés de type éther absorbant la lumière, ledit procédé consistant à faire réagir un chromophore substitut de l'alcool avec un composé acétoxysilicium en présence d'alcool. Un procédé consistant à produire des matériaux SOG absorbants contenant les composés absorbants de type éther est également décrit.
Baldwin Teresa
Drage James
Richey Mary
Spear Richard
Wu Hui-Jung
Gowling Lafleur Henderson Llp
Honeywell International Inc.
LandOfFree
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