C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 413/06 (2006.01) A61K 31/00 (2006.01) A61K 31/423 (2006.01) A61K 31/427 (2006.01) A61K 31/454 (2006.01) A61P 3/04 (2006.01) A61P 3/06 (2006.01) A61P 3/10 (2006.01) A61P 9/00 (2006.01) A61P 9/10 (2006.01) A61P 19/10 (2006.01) A61P 25/28 (2006.01) A61P 29/00 (2006.01) A61P 35/00 (2006.01) C07D 403/06 (2006.01) C07D 405/06 (2006.01) C07D 409/06 (2006.01) C07D 413/14 (2006.01) C07D 417/06 (2006.01) C07D 417/14 (2006.01)
Patent
CA 2463569
A compound represented by the general formula (I): (I) (wherein A represents oxygen, sulfur, etc.; B1 represents nitrogen, etc.; B2 represents oxygen, etc.; X1 and X2 each represents oxygen, sulfur, a bond, etc.; Y represents a C1-8 alkylene chain; Z represents oxygen or sulfur; R1 represents optionally substituted aryl, etc.; R2 represents C2-8 alkyl, etc.; R3 represents C1-8 alkyl, C2-8 alkenyl, etc.; R4 and R5 each represents hydrogen, C1-8 alkyl, etc.; and R6 represents hydrogen, etc.; provided that Z and R3 are bonded to the benzene ring and X2 is not bonded to the benzene ring) or a salt of the compound; and a PPAR.delta. activator containing the compound or salt as an active ingredient.
Composé représenté par la formule (I) dans laquelle A représente oxygène, soufre ; B<sp>1 </sp>représente azote, B<sp>2</sp> représente oxygène ; X<sp>1</sp> et X<sp>2</sp> représentent chacun oxygène, soufre ou une liaison ; Y représente une chaîne alkylène C<sp>1-8 </sp>; Z représente oxygène ou soufre ; R<sp>1</sp> représente aryle éventuellement substitué ; R<sp>2</sp> représente alkyle C<sp>2-8 </sp>; R<sp>3</sp> représente alkyle C<sp>1-8</sp>, alcényle C<sp>2-8 </sp>; R<sp>4</sp> et R<sp>5</sp> représentent chacun hydrogène, alkyle C<sp>1-8 </sp>et R<sp>6</sp> représente hydrogène, dans la mesure où Z et R<sp>3</sp> sont reliés au noyau benzène et X<sp>2</sp> n'est pas relié à ce noyau benzène. Sel de ce composé et activateur de PPAR.delta. contenant ce composé ou ce sel en tant qu'ingrédient actif.
Kanda Takashi
Masui Seiichiro
Sakuma Shogo
Yamakawa Tomio
Nippon Chemiphar Co. Ltd.
Osler Hoskin & Harcourt Llp
LandOfFree
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